国内刊号:11-1864/TB
国际刊号:1000-1158
发布日期:
作者:钟青,刘文德,马晓欢,王君,郑春弟,王雪深,李劲劲
单位:中国计量科学研究院, 北京 100029
关键词:计量学; 减反膜; 超导Nb膜; 介质膜; 单光子探测芯片
基金:国家重点研发计划(2017YFF0206105);国家自然科学基金(61701470);北京信息科技大学2017-2018年度“实培计划”
针对单光子探测芯片中超导Nb膜减反的问题,研究了磁控溅射Nb膜折射率光谱特性随Nb膜厚度变化的规律,同时研究了化学气相沉积法制备的SiO2和SiNx介质膜的折射率光谱特性。为降低超导Nb膜对633 nm光的反射比,在Nb膜表面设计和制备了SiO2和SiNx减反膜。测试结果表明:SiO2和SiNx使反射比明显减小,计算结果验证了这一趋势。
来源:2019年第1期
《计量学报》期刊编辑部