计量学报

作者：郑永军,狄韦宇,罗哉

单位：中国计量大学 计量测试工程学院, 浙江 杭州 310018

关键词：计量学;薄膜厚度;化学机械抛光;终点判定;遗传算法;反射率

基金：国家科技重大专项(2015ZX02101)

提出了一种基于反射法的化学机械抛光(CMP)在线终点判定方法。首先通过改进的单纯形混合遗传算法(GA),对SiO2薄膜的膜厚与折射率进行了拟合,再以200～1200nm波段内反射率平均值作为特征值,得到了不同膜厚条件下的反射率平均值参照表。以实时反射率与预设膜厚反射率的差方和、特征值大小及其变化趋势这2个条件作为CMP终点判定条件。实验结果表明:混合算法拟合膜厚平均相对误差小于0.21%,折射率平均相对误差小于1.07%;特征值计算速度快,满足在线动态抛光的时间要求。

来源：2020年第10期

《计量学报》期刊编辑部

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