国内刊号:11-1864/TB
国际刊号:1000-1158
发布日期:
作者:蒋鹏煊, 赵瑞, 杨智君, 张健, 吴金杰, 包俊霞, 丁卫撑
关键词:电离辐射计量,浅表X射线治疗,电离室修正因子k ch,平板电离室,水吸收剂量
基金:中国计量科学研究院基本科研业务费(AKYZZ2318)
为实现浅表X射线治疗水吸收剂量的精确测量,研究了PMMA模体中电离室修正因子k ch的测量方法。在浅表X射线治疗辐射质下,基于不同孔径的钨合金限束光阑,研究了平板电离室PTW23342和PTW23344在空气中与PMMA模体表面测量的电离电荷读数之比变化;基于蒙特卡罗模拟,实现了背散射因子的确定;测量得到了不同电离室修正因子k ch随半值层和辐射束大小的变化情况。测量结果表明:在SRT-50a、SRT-50b、SRT-70和SRT-100四个参考辐射质下,当源皮距为 0.45 m、辐射束大小为3.0~7.2 cm时,平板电离室PTW23342的空气与PMMA模体表面测量读数之比在0.870 0~0.991 3范围内,k ch的测量结果在1.046~1.094范围内;平板电离室PTW23344的空气与PMMA模体表面测量读数之比在0.901 4~0.992 4范围内,k ch的测量结果在1.053~1.108范围内。
来源:2026年第1期
《计量学报》期刊编辑部